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词速通 - 汉语词语词典 › 词语 › 物理气相沉积
物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 — 拼音 wù lǐ qì xiāng chén jī，更新 2026-07-12 11:41:10
| 拼音 | wù lǐ qì xiāng chén jī |
|---|---|
| 拼音字母 | wu li qi xiang chen ji |
| 首字母 | wlqxcj |
| 注音 | ㄨˋ ㄌㄧˇ ㄑㄧˋ ㄒㄧㄤ ㄔㄣˊ ㄐㄧ |
| 注音符号 | ㄨ ㄌㄧ ㄑㄧ ㄒㄧㄤ ㄔㄣ ㄐㄧ |